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在半導體工業(yè)中，薄膜技術廣泛應用于集成電路、光電器件以及傳感器等領域。薄膜的厚度是影響器件性能和可靠性的關鍵因素之一，因此，精準的薄膜厚度測量至關重要。薄膜厚度測量儀器作為半導體制造過程中的工具，發(fā)揮著重要作用。一、薄膜厚度的測量方法薄膜厚度的測量方法主要有幾種，其中常見的包括光學干涉法、X射線反射法、納米壓痕法和原子力顯微鏡（AFM）法等。這些方法各有優(yōu)缺點，通常根據(jù)實際需求和膜層材料的特性來選擇合適的測量方法。1.光學干涉法：利用光在薄膜界面發(fā)生干涉現(xiàn)象來測量薄膜厚度。該...

2025年3月11-13日，慕尼黑上海光博會在上海新國際博覽中心圓滿收官。本屆展會為業(yè)界呈現(xiàn)了一場高層次的科技盛宴。同時，本屆展會從展示范圍的廣泛度、光電產品的豐富度、趨勢傳遞的新穎度、交流合作的深入度等方面充分展現(xiàn)了全球化浪潮下，光電行業(yè)正通過技術創(chuàng)新、國際合作、產業(yè)鏈整合等方式得到快速發(fā)展的態(tài)勢，贏得了行業(yè)企業(yè)和合作伙伴的高度認可和贊譽。精彩盛況展會風采展會期間人頭攢動，頤光科技作為光學薄膜及納米結構測量解決方案提供商，本次展會攜核心技術產品光譜橢偏儀、反射膜厚儀及光學膜...

慕尼黑上海光博會將于2025年3月11-13日在上海新國際博覽中心盛大召開。2025年正值慕尼黑上海光博會20周年，作為亞洲激光、光學、光電行業(yè)的年度盛會，本屆展會以“躬耕不輟，智啟新程”為主題，超過1400家展商將齊聚申城，共同探索光電產業(yè)的未來發(fā)展方向。展會邀請函頤光科技將攜核心技術產品和解決方案參展，我們誠摯邀請各位新老朋友蒞臨頤光展臺，希望通過此次機會與業(yè)內同仁、專家們共同交流探討、共商合作、互利發(fā)展。展館平面圖頤光科技展位：E7館7472產品介紹關于我們武漢頤光科技...

在材料科學與半導體領域不斷探索創(chuàng)新的征程中，橢圓偏光儀憑借其光學測量原理，正發(fā)揮著不可替代的關鍵作用，為這些領域帶來諸多創(chuàng)新應用。1、在材料科學領域，橢圓偏光儀成為研究材料微觀結構與光學性質的得力助手。對于新型納米材料，它能精確測量材料的厚度、折射率等參數(shù)。比如在二維納米材料研究中，通過偏光儀可以無損且高精度地確定石墨烯等材料的層數(shù)。由于不同層數(shù)的石墨烯光學性質存在細微差異，偏光儀能夠敏銳捕捉這些變化，為材料的制備與性能優(yōu)化提供關鍵數(shù)據(jù)支持。2、在材料表面和界面研究方面，偏光...

紅外橢偏儀是一種高度精密的光學分析儀器，主要功能是在紅外光譜范圍內對材料進行無損表征。它通過測量材料對紅外光的反射或透射過程中偏振狀態(tài)的變化，從而推斷出樣品的諸多物理屬性，如介電常數(shù)、光學性質、薄膜厚度等。作為一種先進的光學測量工具，紅外橢偏儀能夠以非破壞性的方式獲取材料的多種物理性質。具體而言，它可以精確測量如下幾類關鍵物理量：1、光學常數(shù)：包括復折射率（實部n與虛部k）、吸收系數(shù)α。這些參數(shù)對于理解和預測材料的電磁行為至關重要，如色散關系、反射率、透射率等。2、薄膜厚度：...

光譜橢偏儀（SE）是一種高精度的光學測量儀器，廣泛應用于薄膜材料的表征與質量控制。通過測量反射光的偏振變化，光譜橢偏儀能夠提供薄膜的厚度、折射率、消光系數(shù)等重要參數(shù)，進而評估薄膜的光學性質、表面質量以及結構特征。近年來，隨著薄膜技術的進步，橢偏儀在薄膜質量控制中的應用取得了顯著的創(chuàng)新性進展。1、薄膜厚度與光學常數(shù)的精準測量橢偏儀常見的應用是薄膜厚度和光學常數(shù)的測量。在薄膜的生產過程中，厚度控制對于其性能至關重要。例如，在半導體制造中，薄膜的厚度直接影響器件的電學性能和可靠性。...